10.3969/j.issn.1673-0143.2014.03.010
图形化ZnO纳米杆的生长与表征
为了得到具有较好紫外发射特性的ZnO纳米杆阵列,以氢气腐蚀过的GaN薄膜为衬底,在较低的温度(105°C)下采用水浴法制备图形化ZnO纳米杆阵列。对制备的样品进行结构和形貌表征,并通过对比实验研究氢气腐蚀处理的影响。结果表明,氢气腐蚀过的GaN薄膜衬底,有利于形成致密、均匀、定向排列的ZnO六边形图案,符合螺旋位错驱使的生长机制。
ZnO纳米杆、GaN薄膜、六边形
O781(晶体生长)
国家自然科学基金资助项目11304124;江汉大学高层次人才科研启动经费项目2013017,2010014
2014-08-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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