10.3969/j.issn.1001-5078.2022.05.017
碲锌镉晶体Cd源控制生长技术研究
针对碲锌镉(CdZnTe)晶体中二次相缺陷问题,Cd源控制生长技术是更为有效的缺陷抑制技术.本文结合模拟仿真与实际测温调温,对比了VB法以及VGF法下Cd源处温度的可控性.在实现Cd源处温度控制基础上研究了不同Cd源处温度控制条件对晶体二次相缺陷尺寸及分布的影响.VB法中,Cd源处控制温度快速下降,晶体尾端出现三角形Te夹杂缺陷.VGF法中,在Cd源控制温度达到820~790℃范围内时,虽然晶体头部中心部分二次相缺陷问题改善效果一般,但晶体边缘及尾部二次相缺陷问题能够得到了极大改善.
碲锌镉晶体、Cd源控制晶体生长
52
TN213(光电子技术、激光技术)
2022-06-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
730-733