基于Kahan方法的磁流变抛光凸元件几何特性分析

摘要：

凸光学元件在磁流变抛光区域的几何特性对制造高精度、高表面完整性光学元件有重要影响,凸光学元件曲率、嵌入深度与角度的变化将引起磁流变抛光区域压力场的变化.为了研究凸光学元件不同的曲率、嵌入深度与嵌入角度下抛光区域的压力场,首先通过建立磁流变抛光过程中压力模型,对抛光区域的压力进行分析;其次基于Kahan数值方法建立了多场耦合积分的快速计算方法.最后,计算凸光学元件在不同曲率、嵌入深度及角度下得到磁流变抛光区域压力场分布,研究凸元件在磁流变抛光区域受几何特性影响的工艺规律;得出结论:在磁流变抛光过程中通过改变凸光学元件曲率、相同曲率下的嵌入深度以及角度的情况下,当加工凸元件曲率增大时,磁流变抛光区域压力场会随之增大;当凸元件曲率一定、嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光区域压力场会增大;当凸元件曲率一定、嵌入角度增加时,磁流变抛光区域压力场会随角度先增大再减小.

关键词：Kahan方法;磁流变抛光;压力场;凸光学元件;几何特性

所属期刊栏目：52

分类号：O435(光学)

资助基金：高档数控机床与基础制造装备国家科技重大专项;遵义市科技局科技研发项目;贵州省基础研究计划项目

在线出版日期：2022-03-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：266-272