碲镉汞薄膜分步化学抛光技术研究

摘要：

针对碲镉汞薄膜化学抛光过程中容易产生材料组分均匀性变差、影响芯片性能的现象,提出了一种分步化学抛光技术.材料表面分析和组分分析结果表明,分步化学抛光可以降低材料表面的粗糙度,改善化学抛光材料组分的均匀性,有效地去除材料表面氧化,同时对探测器芯片性能的均匀性提升也做出了一定的贡献.

关键词：碲镉汞薄膜、化学抛光、分步、均匀性

所属期刊栏目：50

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2020-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：703-706