磁场约束提高LIBS定量分析精度研究

摘要：

对磁约束下激光诱导击穿光谱技术定量分析精度及检出限进行了专门研究.本文将磁场约束应用于LIBS技术中,选择Ni Ⅱ 221.648 nm为镍元素分析线,Fe Ⅱ 258.588 nm为内标元素谱线,利用标准不锈钢光谱样品303,304,316,321,347结合内标法进行不锈钢中Ni元素定标曲线拟合,用310样品光谱进行定标曲线精度分析及检出限分析.实验结果表明,磁场约束可以有效增强等离子体光谱强度,磁约束下内标法得到的定标曲线拟合系数更高,且310样品检测浓度较LIBS技术更为准确,Ni元素的探测下限降低了1.7倍.

关键词：光谱学、磁场约束、内标法、检出限

所属期刊栏目：49

分类号：TN247(光电子技术、激光技术)

资助基金：毁伤技术重点学科实验室开放研究基金项目DXMBJJ2018-09;山西省回国留学人员科研项目2017-098

在线出版日期：2019-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：945-949