激光化学气相沉积石墨烯聚焦光斑测量研究

摘要：

激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition,LCVD)石墨烯制备受聚焦光斑影响很大.实时检测光斑,可实现石墨烯LCVD法可控制备.设计聚焦光斑测量光学系统,提出一种基于圆拟合的改进算法检测光斑中心和半径,计算、标定光斑面积.该方法在圆拟合基础上加入了二值化、形态学处理及连通性判别等预处理方法.实验表明,该方法测得圆心位置与真值误差平均为5.58 pixel,光斑面积与真值误差平均为1.93×10-9 m2,优于传统的重心法和霍夫检测法,具有较快的计算速度和检测精度,可实现LCVD法制备石墨烯实验中聚焦光斑的非接触式测量,且对其他激光加工工艺的质量控制有借鉴意义.

关键词：激光化学、圆拟合、聚焦光斑、石墨烯

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分类号：O644.18;TP391.41(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金项目61575165;福建省科技计划重大专项2015HZ002 -1

在线出版日期：2017-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：437-442