MEOMS 封装的锗窗金属化结构界面特性研究

摘要：

基于微光机电系统对真空封装的要求，采用磁控溅射法在锗窗口上制备不同膜系的金属化结构，研究在相同的热处理条件下，不同膜系结构对锗窗口界面特性的影响。采用俄歇电子能谱分析原子在膜层间和膜基间的扩散行为。采用划痕测试仪分析膜基间的力学性能。结果表明：Ni 元素对 Au 元素的阻挡效果明显，Cr／Ge 的界面扩散剧烈。Cr／Ni ／Au 金属化结构的膜基结合力为14N，优于其他膜系结构，对于提高锗窗膜基结合强度效果最显著。

关键词：锗窗、金属化、热处理、俄歇电子能谱

所属期刊栏目：46

分类号：TG156.2+2(金属学与热处理)

在线出版日期：2016-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：452-455