不同冷屏黑化工艺 BRDF 指标对比分析

摘要：

冷屏作为红外探测器的重要部件，其内壁消光质量的优劣，直接关系到探测器背景噪声、动态范围和响应均匀性。针对当前正在应用的几种冷屏黑化工艺，通过制备平面样品，测试其在红外谱段2～14μm 的平均 BRDF 数据，结合分析几种工艺方法的特点及实际应用效果，为后续不同类型、不同谱段红外探测器冷屏内壁设计选用何种黑化工艺提供建设性建议。

关键词：冷屏、黑化、平均 BRDF

分类号：TN214(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2016-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：196-199