掺铥钼酸钆钡晶体1.9μm 腔面膜的研制

摘要：

根据 Tm3＋∶BaGd2（MoO4）4激光晶体的发光特性，以厚度为1.1 mm 的该晶体为基底，选择 Ta2 O5和 SiO2作为高低折射率膜料，通过电子枪蒸镀的物理沉积方式分别在晶体两端面设计并镀制了输入膜系和输出膜系，同时采用霍尔离子源辅助沉积来增强晶体与膜层之间的结合力。镀膜后的晶体输入端面795 nm 透过率大于90％，1.9μm 透过率小于0.2％；输出端面795 nm 透过率小于10％，1.9μm 透过率等于6.55％。通过采用795 nm 波长的半导体激光泵浦镀膜后的晶体，实现了1.9μm 准连续激光输出，结果表明该激光输入输出膜系的镀制满足激光器实验的使用要求。

关键词：光学薄膜、激光晶体、电子枪蒸镀、795 nm 泵浦、1.9μm 激光

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2016-03-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1450-1454