碲镉汞液相外延薄膜典型缺陷及其起源分析

摘要：

通过碲镉汞液相外延薄膜的典型缺陷的研究,结合国内外的研究现状,综述了各种缺陷的特征、起因、消除方法等.通过对HgCdTe液相外延层中常见的缺陷进行归纳和总结,探讨各种缺陷的可能起因,以达到提高液相外延工艺水平的目的.

关键词：HgCdTe、液相外延、缺陷、CdZnTe衬底

所属期刊栏目：39

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2009-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：280-284