(NH4)2S硫化处理后InGaAs表面特性的研究

摘要：

通过(NH4)2S湿法硫化InGaAs表面,利用微波反射光电导衰减法测量了经(NH4)2S硫化后的少数载流子寿命.结果显示,经过硫化处理后的InGaAs表面复合速度接近于理想的InP/InGaAs双异质结材料的界面复合速度.为了更好地表征钝化效果,在硫化后的InGaAs表面淀积SiNx制备了MIS结构,通过高低频C-V测试得出两者的界面态密度为8.5×1010 cm-2·eV-1.

关键词：InGaAs、硫化、表面钝化、μ-PCD

所属期刊栏目：37

分类号：TN215(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2007-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：944-946