红外增透与保护膜技术的研究

摘要：

采用电子束与离子辅助沉积技术,在氟化镁晶体材料上制备3.5～4.9μm增透与保护膜.经过实验,选取氧化钛与二氧化硅作为薄膜材料,并优化沉积工艺参数,尽可能减少吸收损失,对氟化镁基底实现有效的增透和保护.实验结果表明,镀膜后其单面剩余反射率由未镀膜时的2.5%减少到1.2%,并能承受湿热和雨淋测试.

关键词：红外增透膜、保护膜、离子辅助沉积、吸收损失、剩余反射率

所属期刊栏目：36

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2007-01-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1162-1164