正/负双层光刻胶厚膜剥离技术

摘要：

首次介绍一种正/负双层光刻胶厚膜剥离技术,采用在厚层正型光刻胶上涂薄层负型光刻胶的方法,在光刻胶的边缘形成顶层外悬的屋檐式结构,实现了10μm蒸发膜层的无高沿边缘剥离.对不同的剥离膜厚,选取合适的胶厚,可控制剥离膜的横向尺寸精度.10μm厚蒸发膜层的横向尺寸差可控制在5μm内.

关键词：光刻、正/负双层光刻胶、屋檐式边缘结构、厚膜剥离

所属期刊栏目：36

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：282-284