10.3969/j.issn.1001-5078.2005.11.013
采用(211)碲锌镉衬底制备碲镉汞液相外延薄膜
文中对(211)晶向的CdZnTe衬底进行液相外延生长HgCdTe.获得的碲镉汞液相外延材料的组分为0.30~0.33,薄膜厚度为10~15μm,表面缺陷密度为500cm-2,材料的FWHM达到24弧秒,位错腐蚀坑密度约为2×105cm-2,该材料的表面形貌与采用(111)晶向衬底的HgCdTe外延材料有较大区别.
CdZnTe衬底、HgCdTe薄膜材料、液相外延
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TN304.054;TN304.2+5(半导体技术)
2005-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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