10.3969/j.issn.1001-5078.2005.06.017
外差椭偏测量技术及其混频误差分析
结合激光外差干涉术和反射式椭偏测量技术,设计了一种抗干扰能力强,快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法.着重分析并计算了非线性混频误差对测量精度的影响,其中塞曼激光和波片产生的光束椭偏化是关键因素.定义了评价因子以比较非线性混频误差的相对大小,这对外差椭偏纳米薄膜测量系统的设计有指导意义.
椭偏测量术、外差干涉、薄膜、混频误差、评价因子
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TH744.3(仪器、仪表)
广东省自然科学基金031809;广东省高校自然科学基金Z02062;深圳大学校科研和教改项目
2005-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
438-440