大尺寸氟化物晶体的坩埚下降法生长研究

摘要：

采用坩埚下降法,在自制的真空炉内石墨坩埚中生长了大尺寸LiF、CaF2和LaF3晶体.生长前,在水平电阻炉内对市售的氟化物原料进行了氟化处理,合成了稳定的无水氟化物多晶料.通过优化生长参数,如适当的炉温分布、合适的晶种以及缓慢的降温速率,成功地生长出尺寸分别为φ110mm×50mm、φ200mm×45mm和φ50mm×50mm的LiF、CaF2和LaF3晶体.

关键词：氟化物、坩埚下降法、晶体生长

所属期刊栏目：34

分类号：O782(晶体生长)

在线出版日期：2005-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：467-469