HWE生长大面积CdTe/CdZnTe/Si薄膜的结构和形貌分析

摘要：

用热壁外延法(HWE)生长直径30mm的CdTe/CdZnTe/Si薄膜,经XRD测试说明它是晶面为(111)取向的立方闪锌矿结构.SEM对Si衬底、CdZnTe缓冲层和CdTe薄膜三层分别测试,结果发现:Si衬底表面结构粗糙,CdZnTe缓冲层较Si衬底表面结构细致,CdTe薄膜较CdZnTe缓冲层表面结构光滑细密,即缺陷较CdZnTe缓冲层少很多.通过对该片子照像看出其表面如镜面.由此说明大面积CdTe/CdZnTe/Si薄膜可用HWE技术制备.

关键词：热壁外延、大面积、硅衬底、碲镉薄膜、结构、表面形貌

所属期刊栏目：34

分类号：TB381(工程材料学)

资助基金：云南省教育厅资助项目02ZD016

在线出版日期：2005-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：457-459