红外焦平面阵列非均匀性及校正分析

摘要：

大规模红外焦平面阵列器件固有的非均匀性,严重地制约着红外成像系统的性能,这是其应用中必须解决的一个关键问题.本文详尽地分析了产生非均匀性的各种因素,并对其校正原理进行了阐述,最后给出了基于参考源校正算法的仿真结果.

关键词：红外焦平面阵列、非均匀性、仿真结果

所属期刊栏目：33

分类号：TN215(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2004-03-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：446-448