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10.3969/j.issn.1001-5078.2000.04.016

PtSi薄膜超薄化及连续性研究

引用
减薄膜厚有利于提高PtSi红外探测器的量子效率.本文研究了膜厚减薄工艺对薄膜连续性的影响,用XRD观察物相,SEM、TEM研究薄膜连续性,并给出理论解释.实验表明用混合生长(S-K)模式能形成超薄连续薄膜.

PtSi膜、超薄膜、连续性

30

TN204(光电子技术、激光技术)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

238-239

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激光与红外

1001-5078

11-2436/TN

30

2000,30(4)

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