国际主流光刻机研发的最新进展

摘要：

介绍了65 nm和45 nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展.

关键词：光刻机、双工件台技术、偏振光照明、折反式物镜、浸没式光刻、下一代光刻

所属期刊栏目：44

分类号：TN3(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60578051

在线出版日期：2007-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：57-64