10.13394/j.cnki.jgszz.2015.3.0011
K9玻璃磁性研磨抛光表面粗糙度试验研究
针对 K9光学玻璃研磨抛光过程中存在的问题,将磁性研磨加工方法应用在光学玻璃的研磨抛光上。试验表明,K9玻璃的表面粗糙度值Ra由原来的90 nm 左右下降到40 nm 左右。为进一步研究磁性研磨试验的4个因素,设计了正交试验,最终得出各个因素对于工件表面粗糙度影响的主次顺序,并确定其最优组合为:磁极转速2300 r/min,加工间隙1.5 mm,磁感应强度0.4 T,进给速度200 mm/min。
磁性研磨、光学玻璃、磁感应强度
TG58(金属切削加工及机床)
2015-07-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
57-60,75