纳米氧化铈抛光液对钌的化学机械抛光

摘要：

采用液相沉淀法制备了纳米CeO2磨料,利用X射线衍射(XRD)表征其物相组成.通过纳米粒度仪研究了分散剂种类、热处理温度对CeO2磨料制备的悬浮液的粒径分布和Zeta电势的影响.用由CeO2磨料制备的抛光液对钌进行化学机械抛光,采用原子力显微镜观察钌片表面的微观形貌.结果表明:制备的粉体是具有立方萤石型结构的纳米CeO2,其晶粒尺寸随热处理温度的升高而增大；CeO2磨料在以六偏磷酸钠(SHMP)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好；在抛光压力为6.9 kPa,抛光台转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,抛光液pH值为10.0,抛光液主要组成(质量分数)为1％ CeO2,1％(NH4)2S2O8,0.01％ SHMP的条件下,钌的抛光速率达到9.0 nm/min,表面粗糙度Ra值为2.2 nm.

关键词：CeO2、钌、化学机械抛光、分散剂

所属期刊栏目：33

分类号：TG175.3;TN305.2(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金项目50975002;安徽工业大学创新团队项目TD201204;教育部高校留学回国人员科研项目资助

在线出版日期：2013-04-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：60-64