氮化铝基片的集群磁流变抛光加工

摘要：

本文进行了氮化铝基片的集群磁流变抛光加工研究,分析了主要工艺参数的影响和加工表面形貌特征.实验结果表明:集群磁流变抛光加工氮化铝基片可以实现高效率超光滑抛光,原始表面Ra1.730 2μm抛光60 min后可以达到Ra0.037 8μm.选用碳化硅磨料,磨料质量浓度为0.05 g/mL,工件与抛光盘转速比为5.8左右,加工初期采用较小加工间隙最后抛光采用较大加工间隙,可以获得较高的材料去除率和较光滑的加工表面.

关键词：氮化铝基片、集群磁流变效应、抛光、表面粗糙度

所属期刊栏目：31

分类号：TG58(金属切削加工及机床)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;广东省自然科学基金

在线出版日期：2012-03-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38