10.3969/j.issn.1006-852X.2011.05.004
氮气对DC-PCVD法制备金刚石薄膜影响的研究
采用直流热阴极等离子体化学气相沉积方法,用甲烷、氢气、氮气的混合气体在Mo基底上成功制备了金刚石薄膜.分别采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)对不同流量氮气氛下生长金刚石薄膜的形貌、取向、质量进行了表征.结果表明:适量氮气的加入,不仅可以促进金刚石薄膜的生长速率,还可以促进金刚石(100)晶面的显现;随着氮气含量的增加,金刚石晶粒也逐渐细化,并且薄膜中非金刚石成分增加,但金刚石表面变得光滑平整.本工作有助于金刚石膜涂层领域的应用.
化学气相沉积、金刚石薄膜、氮气
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TQ164
国家自然科学基金91022029
2012-03-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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