“限流环”对MPCVD法快速制备高质量金刚石膜的研究

摘要：

为了提高金刚石膜的沉积速率和沉积质量,本文通过在5 kW微波等离子体化学气相沉积装置(MPCVD)的腔体内添加“限流环”,运用较高的微波功率(4700 W)以较高的沉积速率(25.0μm/h)得到了高质量的金刚石膜.添加“限流环”后,明显改变了工作气体在腔体中的流向.在高功率微波下,工作气体能尽可能多地流经高能等离子体活化区,从而被更高效、充分地离化成含碳基团,以提高金刚石膜的沉积速率和沉积质量.利用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱等表征手段研究了在改进前后装置中所沉积的金刚石膜的结构和质量,结果表明:利用较高的微波功率,能在改进后的MPCVD装置中高速沉积高质量的金刚石膜.

关键词：微波等离子体、化学气相沉积、金刚石膜、气体流向

所属期刊栏目：31

分类号：TQ164

资助基金：高等学校青年教师深入企业行动计划XD2010238

在线出版日期：2012-03-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：10-14