非晶硅太阳能电池中BZO导电膜的激光刻蚀工艺研究

摘要：

主要研究非晶硅太阳能电池中ZnO:B (BZO)导电膜的激光刻蚀工艺.以厚度为1.2 um的BZO导电膜为刻蚀对象,使用1064 nm红外激光进行刻蚀探讨.实验中通过改变激光电流、脉冲频率、刻蚀速率等参数进行对比实验.当激光刻蚀参数为:电流为35 A、脉冲频率为40 KHz、刻线速率为600 mm/s时,可以获得无导通连接点、无空洞、无烧蚀区域、宽度为35um的较佳激光刻线.

关键词：BZO导电膜、激光刻蚀、1064 nm、刻蚀速率

所属期刊栏目：31

分类号：TQ171

在线出版日期：2014-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：33-36