改善硬盘磁头气垫面边缘残留物的研究

摘要：

本文针对公司电脑硬盘部件磁头的ABS面(气垫面)制造过程中,等离子刻蚀及清洗工艺完成后在ABS面图形边缘发现残留物(小突起,Fencing)的问题,进行了试验分析研究并找到了解决问题的办法.在对淀积物残留物形成机理的研究基础上结合对光刻技术、等离子刻蚀技术的研究的后,采用DOE实验方法优化了软烘及显影工艺后,增强了光刻胶与基材的粘附性进从而极大地减少了残留物的产生.ABS面图形边缘残留物的问题得到有效解决.

关键词：ABS面;残留物;等离子刻蚀;正性光刻胶

所属期刊栏目：34

分类号：TP30(计算技术、计算机技术)

在线出版日期：2021-12-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：42-43