合成膜电阻片喷涂过程的雾化仿真

摘要：

合成膜电阻片是合成膜电位计中的关键零部件,其电阻的线性度直接决定了电位计的精度.喷涂电阻液是合成膜电阻片制造过程中的关键工序,因为喷涂的均匀性对电阻片的电阻线性度有至关重要的影响.影响喷涂均匀性的因素主要有电阻液本身的均匀性、电阻液雾化的均匀性、喷枪与电阻片相对运动速度的均匀性以及喷涂室流场的分布特性等.对电阻液雾化进行了分析,利用有限元仿真,得到了雾化气体压力、电阻液流量以及喷涂距离对电阻液雾化均匀性的影响规律.对于口径0.5 mm的喷枪,当电阻液流量恒定,雾化压力从0.2 MPa增加到0.4 MPa时,雾化均匀区间从距离喷嘴260 mm处变到距离喷嘴150 mm处;当雾化压力恒定,电阻液流量从1.89×10-5 kg/s增加到4.89×10-5 kg/s时,雾化均匀区间从距离喷嘴130 mm处变大到距离喷嘴200 mm处.这些仿真结果将为电阻液喷涂工艺提供一定的参考.

关键词：合成膜电阻片、线性度、喷涂、雾化仿真

所属期刊栏目：44

分类号：TH4(气体压缩与输送机械)

在线出版日期：2016-11-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：7-11