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10.3321/j.issn:1000-1190.2001.04.014

硅钼杂多酸-聚吡咯膜修饰电极的制备及其电化学性能的研究

引用
用电化学方法将硅钼杂多酸催化剂固定在导电聚吡咯薄膜电极上,制得了具有表面功能的硅钼杂多酸掺杂的聚吡咯薄膜修饰电极.实验发现在0.5 mol/LH2SO4或0.5 mol/LKCl介质中制得的硅钼杂多酸的聚吡咯薄膜修饰电极具有较好的稳定性和催化性能,用扫描电镜(SEM)、SEM-能谱仪(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对修饰电极进行了表征.

杂多酸、化学修饰电极、电化学

35

O657.13(分析化学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

427-429,433

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华中师范大学学报(自然科学版)

1000-1190

42-1178/N

35

2001,35(4)

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