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10.13954/j.cnki.hdu.2017.06.002

基于65 nm CMOS工艺的D波段功率放大器设计

引用
基于65 nm CMOS工艺,研究和设计了一款四级全差分结构的D波段功率放大器芯片.采用交叉耦合电容中和技术抵消了硅基CMOS晶体管栅漏寄生电容,提高了放大器的增益和稳定性.通过优化输入输出巴伦和级间变压器,功率放大器的增益和输出功率得到了显著改善.仿真结果显示,在1.2 V的电源电压下,工作在140 GHz的功率放大器的功率增益为16.7 dB,饱和输出功率为11.3 dBm,输出1 dB压缩点为7.0 dBm,功耗为130 mW.芯片面积为500μm×455μm.

D波段、CMOS、功率放大器、中和、变压器

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TN402(微电子学、集成电路(IC))

国家自然科学基金资助项目61331006;浙江省自然科学基金资助项目LY16F040004

2018-01-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

5-8,35

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杭州电子科技大学学报

1001-9146

33-1339/TN

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2017,37(6)

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