可转让的新技术新产品

摘要：

@@·紫外光表面清洗机 该专利技术是利用光子对有机化合物的光敏氧化作用，达到去除粘附在材料表面上的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到”原子清洁度”。光清洗的应用范围十分广泛，可用于液晶显示器、半导体和半导体器件、集成电路、光学镀膜、敷铜箔层压板等生产过程中各种表面的清洁处理。

机标关键词：转让、材料表面、清洗机、敷铜箔层压板、半导体器件、有机化合物、液晶显示器、专利技术、有机物质、应用范围、氧化作用、生产过程、清洁处理、集成电路、光学镀膜、紫外光、清洁度、光子对、粘附、原子

分类号：TQ6;TL5

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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