离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究

摘要：

Si薄膜在可见光和近红外波段具有一定的吸收特性,可用于宽带吸收薄膜的制备.采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了不同沉积工艺参数的Si薄膜,基于透、反射光谱和椭偏光谱的全光谱数值拟合法,计算了Si薄膜的光学常数,并研究了氧气、氮气流量对其光学特性的影响.选择Si和Ta2O5作为高折射率材料、SiO2作为低折射率,设计了吸收率为2％和10％的宽带(1 000～1 400 nm)吸收薄膜.采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了宽带吸收薄膜,对于A=2％的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为2.12％、2.15％和2.22％;对于A=10％的宽带吸收光谱,在1064、1 200、1 319nm的吸收率分别为9.71％、8.35％和9.07％.研究结果对于吸收测量仪、光谱测试仪等仪器的定标具有重要的作用.

关键词：离子束溅射技术、Si薄膜、吸收率、光学常数

所属期刊栏目：48

分类号：O433.4(光学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;天津市自然科学基金

在线出版日期：2019-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：243-247