变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验

摘要：

开展了变焦彩色CCD成像系统的激光外场干扰实验,测得了半导体激光(750 nm)对变焦距(17～187 mm)彩色CCD相机的干扰效果;同时利用典型的激光干扰CCD模型,完成了对实验结果的验证与理论分析.理论与实验结果表明:750 nm激光对彩色CCD成像系统的干扰效果明显,CCD靶面出现了明显的光饱和和串扰现象;在激光辐照条件相同情况下,光学系统焦距f越大,被光阑截断的激光就越少,到靶的激光功率密度就越高,CCD靶面的光饱和面积就越大;光学系统焦距f为17mm时,CCD靶面的光饱和面积为0.33 mm×0.29 mm,而当光学系统焦距f增大至120 mm时,CCD靶面的光饱和面积为1.8 mm×1.2 mm.仿真结果与实验结果基本一致,证明了理论模型的正确性.研究结果将对CCD器件的实际应用具有一定的指导意义.

关键词：激光干扰、变焦光学系统、半导体激光器、光饱和串扰

所属期刊栏目：46

分类号：TN248(光电子技术、激光技术)

资助基金：长春市科技计划长科技合2013270号

在线出版日期：2017-06-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：53-58