偏视场光学系统中心遮光罩设计

摘要：

对偏视场光学系统的遮光罩进行优化设计.偏视场在一个方向上非对称,设计主镜内遮光罩需要进行光线追迹,难度大.采用痕迹图方法获得光线在空间的位置坐标,确定系统有效视场大小及挡光部分位置,对内遮光罩的挡光部分进行开口处理,得到一个上短下长的特殊“鸭嘴型”遮光罩,降低设计难度.经过优化分析,最终的主镜内遮光罩沿Z轴方向的尺寸缩减为原来的一半,在Y轴方向上尺寸减小来降低非有效视场的大小.使用TracePro软件对设计好的遮光罩进行建模、仿真,得到PST在离轴角度为30°时达到10-9量级,小于系统的5.59×10-7指标要求.结果表明:使用痕迹图法对偏视场光学系统的主镜内遮光罩进行设计是可行的.

关键词：偏视场、杂散光、中心遮光罩、PST

所属期刊栏目：46

分类号：O435(光学)

在线出版日期：2017-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：210-214