金刚石衬底的氧化钒薄膜光电特性研究

摘要：

利用射频磁控溅射方法，在光学级单晶金刚石上制备了氧化钒薄膜，然后对其结构与厚度、表面形貌、电学及光学性能进行了表征。实验结果表明，制备出的薄膜表面均匀性良好，为单一组分的V2O5薄膜，在(001)面有明显的择优取向，薄膜结晶度和表面形貌非常好；电学性能方面，获得了三组不同厚度V2O5薄膜温阻特性曲线，当薄膜为150 nm时，薄膜的电学突变特性最好，电阻值变化幅度将近3个数量级；对不同厚度薄膜的光学响应特性进行了测试分析，当受到高能激光照射时，薄膜均出现了相变和回复，薄膜的光学开关时间均随着膜厚的增加而增加，其中光学关闭时间的变化范围为1.6~2.5 ms，回复时间的变化范围为26~33 ms。

关键词：V2O5薄膜、单晶金刚石、电学性能、光学特性

所属期刊栏目：45

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金51275230；航空科学基金20140152001；江苏省研究生培养创新工程KYLX 0226；中央高校基本科研业务费专项资金

在线出版日期：2017-03-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：1221001-1-1221001-8