PLD法制备半球面均匀DLC膜的装置尧仿真与实验

摘要：

由于激光烧蚀靶材形成的等离子体羽辉呈高斯分布，导致沉积的大面积薄膜尤其是球面衬底上的薄膜极不均匀，严重限制了脉冲激光沉积法的应用。设计构建了旋转与变速摆动相结合的三维衬底机构，实现对半球面不同区域的连续沉积，保证了膜层的均匀性；建立膜厚分布的数学模型，模拟分析了运动参数对膜厚分布的影响；首次利用脉冲激光沉积技术制备出口径200 mm大尺寸半球面衬底上的均匀类金刚石膜，顶角80o范围内膜厚不均匀性≤±5%。脉冲激光沉积法在大口径半球面衬底上制备均匀类金刚石膜在空间观测等领域均具有巨大的应用前景。

关键词：均匀膜层、脉冲激光沉积、类金刚石膜、大口径半球面衬底

所属期刊栏目：45

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2016-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：0621004-1-0621004-5