热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析

摘要：

采用离子束溅射技术，在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜，并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大，随着热处理温度增加，SiO2薄膜折射率先减小后增大，当热处理温度为550℃时，折射率达到最小。经过热处理后，SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低，在2 ppm(1 ppm=10-6)左右，当热处理温度为550℃时，获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1 ppm。实验结果表明：采用合适的热处理温度，能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。

关键词：SiO2薄膜、光学特性、热处理、折射率、弱吸收

分类号：TB34;O434(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金61235011；国家重大科学仪器专项子项目2012YQ04016405；天津市科委项目13JCYBJC17300，12JCQNJC01200

在线出版日期：2014-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3334-3337