界面层对激光减反膜的影响研究

摘要：

激光技术的发展对减反膜提出了超高透过率的要求,基板的表面特征在高精度减反膜的设计与制造中不可忽略.选择熔融石英为基板,Ta2O5和SiO2为高低折射率膜层材料,针对在0 °入射角下工作的532 nm激光减反膜进行设计与分析,得到膜层内的电场分布.在模拟计算中将基板的表面粗糙度等效为等比例混合膜,计算分析了理想设计条件下不同厚度界面层的Ⅴ型减反膜,得到透过率与界面粗糙度的数值函数关系,最后利用数值优化的方法对理想设计进行修正,得到了存在界面层的减反膜修正结果,研究结果有助于实现超高透过率短波长激光减反膜的设计与制备.

关键词：激光减反膜、界面层、表面粗糙度、修正设计

所属期刊栏目：40

分类号：O432(光学)

资助基金：天津市科委项目10JCYBJC01500

在线出版日期：2012-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2003-2007,2027