激光在硅基底沉积类金刚石膜的光学应用

摘要：

研究了氧气氛和掺硅对类金刚石(DLC)膜性能的影响机理.采用飞秒激光烧蚀石墨靶材,通过氧气氛、掺硅和离轴平移旋转等技术,在硅基底上镀制出比传统工艺透过率、硬度、附着力和稳定性等性能更优的无氢DLC膜.实验验证了随着氧气氛压强的增大,样片透过率先增大后减小,存在一个最佳气压(2 Pa).并且掺硅有助于改善DLC膜的性能,掺硅量也存在一个最佳值.在3-5 μm波段,正面镀DLC膜、背面镀普通增透膜的硅红外窗口的平均透过率≥91.7%,DLC膜的纳米硬度高达40～50 GPa.且通过军标规定的高温、低温、湿热、盐雾、重摩擦等环境实验.满足光学窗口工程应用的要求.

关键词：激光沉积、类金刚石膜、硅基底、光学应用

所属期刊栏目：39

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家863计划资助项目

在线出版日期：2011-03-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：875-878