微透镜列阵成像光刻技术

摘要：

介绍了一种利用微透镜列阵投影成像光刻的周期微纳结构加工方法.该方法采用商业打印机在透明薄膜上打印的毫米至厘米尺寸图形为掩模,以光刻胶作为记录介质,以微透镜列阵为投影物镜将掩模缩小数千倍成像在光刻胶上,曝光显影后便可制备出微米、亚微米特征尺寸的周期结构列阵.基于该方法建立了微透镜列阵成像光刻系统,并以制备800 nm线宽、50 mm×50 mm面积的图形列阵为例,实现了目标图形的光刻成形,曝光时间仅为几十秒,图形边沿粗糙度低于100 nm.该方法系统结构简单、掩模制备简易、曝光时间短;为周期微纳结构的低成本、高效率制备提供了有效途径.

关键词：微纳光学、成像光刻、微透镜列阵、微纳结构

所属期刊栏目：39

分类号：O43(光学)

资助基金：863计划资助项目2007AA03Z332

在线出版日期：2010-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：469-472