纳米高度工作磁头的稀薄区域与稀薄效应分析

摘要：

利用考虑稀薄气体效应修正的Reynolds方程对飞高在10nm附近的负压磁头的稀薄区域进行了数值计算.根据计算结果对其所处的稀薄区域和稀薄效应对磁头飞行性能的影响进行了分析和讨论.分析结果表明:磁头工作在滑流区和过渡区,并随着速度增加明显向过渡区移动;稀薄气体效应最大处不是发生在飞高最薄的尾部,而是发生在飞高较薄、压力较低的边缘区;考虑稀薄效应对载荷和最大压力有所降低,而对最小压力的影响较小.

关键词：稀薄区域、稀薄效应、磁头、工作性能

所属期刊栏目：35

分类号：TH117.2;TP333.3;O356

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划2003CB716205

在线出版日期：2008-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：49-53,60