富氮SiOxNy膜的电子注入特性

摘要：

通过施加直流电压于P型SiOxNy薄膜，使热电子注入到薄膜而引起薄膜电学参数的改变.测试了薄膜在电子注入前后电学参数的变化，以研究薄膜的电子注入特性，探求薄膜的抗电子注入能力与制备工艺之间的关系.结合俄歇电子能谱和红外光谱分析膜的微观结构，对薄膜的电子注入特性进行了理论分析与讨论.

关键词：SiOxNy薄膜、等离子体增强化学气相淀积、电子注入、俄歇电子能谱、红外光谱、电学特性

所属期刊栏目：29

分类号：TN304.055;O484.42(半导体技术)

资助基金：广东省自然科学基金950186

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：31-34