过焦扫描光学显微测量技术综述

摘要：

随着半导体产业的发展和器件性能的不断提升,半导体器件的特征尺寸越来越小,器件结构越来越复杂,对检测仪器的性能提出了更高的要求.首先介绍过焦扫描光学显微法(Through-focus Scanning Optical Microscope,TSOM)的测量装置及测量原理,该方法可实现三维几何参数的无损测量,因其具有精度高、速度快、成本低等优点,可以满足在线测量的需求;然后从TSOM图构建和待测参数提取两个方面对TSOM方法的研究进展进行了梳理和归纳;最后对TSOM方法未来的研究重点和发展方向进行了展望.该方法有望为我国半导体制造产业提供新的检测手段,为优化和提升我国半导体制造工艺提供重要的技术支撑.

关键词：光学微纳测量、过焦扫描光学显微法、深度学习、无损测量

所属期刊栏目：43

分类号：TB9(计量学)

资助基金：国家重点研发计划;清华大学精密测试技术;国家重点实验室开放基金;国家自然科学基金;精密测试;国家重点实验室开放基金

在线出版日期：2023-04-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：18-29