期刊专题

10.16080/j.issn1671-833x.2023.10.014

大高宽比阶梯型铜微柱阵列的制作

引用
基于THB-151N光刻胶的微电铸工艺制作了一种阶梯型铜微柱阵列.针对THB-151N光刻胶显影过程中20 μm微盲孔显影困难和底部留膜的问题,提出了一种基于浸没式双向兆声波辅助的显影方法.仿真研究了兆声功率密度和微盲孔深宽比对显影液传质过程的影响.优选了兆声功率密度和微盲孔深宽比,并开展了兆声辅助显影的试验研究.同时,针对THB-151N胶膜因曝光剂量选择不当导致微盲孔侧壁垂直度差的问题,通过光刻试验分析了曝光剂量对微盲孔侧壁垂直度的影响,拟合出曝光剂量与胶膜厚度的经验方程.在上述工艺方法和试验研究的基础上,制作出高度300μm、整体高宽比达15:1、最小边长20μm、4×6的阶梯型铜微柱阵列.

铜微柱阵列、紫外光刻、显影、微电铸、兆声

66

TN305.7;TU352.1;TN41

国家自然科学基金;国家自然科学基金;大连市科技创新基金

2023-07-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

14-20

暂无封面信息
查看本期封面目录

航空制造技术

1671-833X

11-4387/V

66

2023,66(10)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn