大径厚比深拱形光学元件高抛变形抑制方法

摘要：

球面光学零件高速抛光工艺具有生产效率高、面形精度稳定等优势,已经成为光学零件规模化生产必不可少的手段,但部分光学元件具有径厚比大、矢高深等特点,极易发生弯曲或扭转变形,在高转速、高压力条件下进行抛光,受到夹具作用和抛光盘运动等影响,面形精度难以稳定控制,严重制约了抛光效率的提升.针对上述问题,建立大径厚比深拱形光学元件高速抛光动力学模型,进行模态分析,提取影响面形精度的模态特征.在此基础上,采用拓扑优化算法,优化夹具设计,使得加工变形对面形精度的影响大幅度降低.

关键词：高速抛光、模态分析、拓扑优化、变形抑制、光学加工

所属期刊栏目：63

资助基金：天津市自然科学基金17JCZDJC38600

在线出版日期：2021-02-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：87-93