10.3969/j.issn.1005-5053.2001.01.004
MOCVI制备Nextel 720/SiO2复合材
研究了MOCVI(Metal Organic Chemical Vapor Infiltration)方法制备Nextel720/SiO2复合材料的工艺理论基础,分析了载气流量、先驱体TEOS(正硅酸乙酯)温度、沉积温度和氧气浓度对氧化硅基体沉积速率和Nextd720/SiO2复合材料显微结构的影响。结果表明,TEOS 60℃,O2流量30ml·min-1,载气流量400ml·min-1,沉积温度600℃为复合材料最佳制备条件。
TEOS、MOCVI、Nextd 720/SiO2、复合材料、制备条件
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TB332(工程材料学)
航空基金99G53081
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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