多层像素芯片缪子成像装置中芯片位置校正方法研究

摘要：

硅像素互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)芯片因具有微米级的位置分辨能力和极高的探测效率等特点,对于径迹精确重建具有举足轻重的作用.通过大面积拼接,能够将硅像素芯片用于μ子成像,但芯片拼接产生的机械误差,以及各层之间的相对位置误差,对μ子重建过程中的位置精度具有明显影响.本文利用μ子通过探测层时产生的观测点,建立了基于μ子径迹直线拟合模型的迭代芯片位置校正算法.通过在GEANT4程序中构建μ子成像探测原型装置,其中包含8个物理探测层,每层拼接了4块硅像素芯片,并添加芯片在x、y方向与旋转角θ三个自由度上的偏移量,模拟了真实情况下的机械误差对重建位置精度的影响.结果显示:该算法可用于芯片真实位置的高精度修正,使芯片位置修正精度小于5 μm.

关键词：硅像素芯片、位置分辨、径迹重建、位置校正

所属期刊栏目：42

分类号：O572.19(原子核物理学、高能物理学)

资助基金：中国博士后科学基金面上项目2019M650611;博士后"国际交流计划"引进项目No.2018237资助 Supported by China Postdoctoral Science Foundation2019M650611;Postdoctoral International Exchange Program2018237

在线出版日期：2019-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：43-48