一个PIXE-RBS离子束分析系统的刻度

摘要：

四川大学原子核科学技术研究所依托2.5 MeV范德格拉夫静电加速器搭建了质子诱发X射线荧光分析(Proton Induced X-ray Emission,PIXE)与卢瑟福背散射分析(Rutherford Backscattering Spectrometry,RBS)相结合的离子束分析系统,描述了该分析系统和刻度过程.通过10个金属单质的PIXE-RBS测量,刻度得到的仪器常数H值是一条随能量变化的曲线,然后采用最小二乘法拟合确定了X射线探测器前的Mylar膜有效厚度、选择性滤膜的有效厚度和中心小孔大小,从而得到H值.为了对刻度H值进行检验,在相同实验条件下测量了标准粘土样品元素成分,测量数据与证书数据符合得较好.刻度结果将用于以后的PIXE-RBS分析.

关键词：质子诱发X射线荧光分析、卢瑟福背散射分析、H 值

所属期刊栏目：40

分类号：TL81(粒子探测技术、辐射探测技术与核仪器仪表)

资助基金：国家自然科学基金11175123;中国工程物理研究院中子物理学重点实验室项目No.2014BA06资助 Supported by National Natural Science Foundation of China11175123;Key Laboratory of Neutron Physics, China Academy of Engineering Physics2014BA06

在线出版日期：2017-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：9-14