加速器质谱测量用HfF4样品的制备研究

摘要：

研究了用于加速器质谱(AMS)测量的HfF4样品的制备方法.通过分离纯化流程和HfF4的制备流程,将HfO2样品制成符合加速器质谱测量用的HfF4.流程去杂质能力很强,特别是对钨的去污,样品基本满足测量要求.全流程产额约为70%,对钨的去污系数约为106.

关键词：HfF4、加速器质谱、样品制备、去污系数

所属期刊栏目：30

分类号：O614.413;TL92;TL12(无机化学)

资助基金：国家自然科学基金联合资助基金-NSAF联合基金10576040

在线出版日期：2007-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：660-664