离子束诱变西瓜体细胞抗镰刀菌酸突变体研究

摘要：

将通过能量为25keV、注量为6.24×1016/cm2的Ar+辐射处理后的三份西瓜种子接种在含有15mg/L镰刀菌酸(Fusaric acid,FA)的MS(Murashige,Skoog)培养基上获得无菌苗,以其子叶为外植体接种在MS+2mg/L6-苄氨基嘌呤(Benzylaminopruine,BA)+15mg/L FA培养基上进行诱导生芽,将抗性再生芽转接到MS+0.2mg/L萘乙酸(Naphthylacetic acid,NAA)+15mg/LFA培养基上,进行抗FA的再生苗的生根诱导培养.结果表明,离子束辐射处理和FA对感病西瓜种子3-27和YH-5的发芽率及成苗都有显著抑制,两者的复合抑制作用更强;离子束辐射处理过的两个感病西瓜种子抗FA的芽诱导再生率和生根诱导率都高于对应的不经过离子束辐射处理的对照材料,提高幅度在材料之间、芽再生和根再生之间有差异.

关键词：西瓜、低能离子束、体细胞、抗性突变体

所属期刊栏目：26

分类号：S355.2(播种、栽植)

资助基金：国家自然科学基金19890300-4

在线出版日期：2003-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：609-612